目前多晶硅生產技術在國內主要是以改良西門子法—閉環(huán)式三氯氫硅氫還原法是用氯氣和氫氣合成氯化氫為主， 氯化氫和工業(yè)硅粉在一定的溫度下合成三氯氫硅， 然后對三氯氫硅進行分離精餾提純， 提純后的三氯氫硅在氫還原爐內進行CVD 反應生產高純多晶硅。然而，游離氧和水分對合成反應極為有害，因為Si-O鍵比Si-Cl 鍵更為穩(wěn)定， 反應產物極易發(fā)生氧化和水解，使SiHCl3的產率降低，水解生成的硅膠會堵塞管道，使操作困難，水解產生的鹽酸對設備有強烈的腐蝕作用。游離氧或水分還能在硅表面逐漸形成致密的氧化膜，影響正常反應的進行，同時多晶硅生產過程存在大量Cl2、HCl 等腐蝕性氣體， 氣體中含有的水分超標時就會形成鹽酸等腐蝕性物質。為了防止水含量超標腐蝕生產設備，確保設備長期可靠地運行， 必須對某些過程氣中水含量進行實時監(jiān)測。多晶硅生產企業(yè)要針對防腐的需要， 實時檢測氫中微量水、氯中微量水、氯化氫總管中微量水等，一旦檢測到水含量超標， 微量水分析儀將發(fā)出報警信號，提醒操作人員檢查生產運行情況，為此，必須對生產過程中的微量氧和微量水實時監(jiān)控。
    微量水分析儀具有*的可靠性和測量重復性。新一代傳感器在電極和P2O5涂層工藝方面的進展，使之在強腐蝕性氣體中的應用成為可能。微量水分析儀產品具有三十年的歷史，積累了豐富的生產和現場應用經驗。本產品在世界各地占有較大的*?，F以成功地應用在空分、煉油、石油化工等領域，使用效果受到好評。
    微量水分析儀在下列氣體中得到廣泛應用，氮、氫、氧、臭氧、氦、氬、氙、乙炔、二氧化碳、氯、甲烷、氟、氟化氫、二氧化硫、硫化氫、天然氣和許多其它氣體。
    儀器特點：
    1．安裝方便：儀器可以放置在桌面上，可以便攜，可以安裝在墻壁上， 也可以安裝在19#儀表機架上。
    2．測量范圍寬：從幾個PPm到5000PPm均可測量。有液晶顯示PPm數值， 也可輸出4-20mA模擬量。
    3．適應氣體廣：除了與磷酸起反應的物質、氨氣中的水份外，其他氣體 中的微量水均可測量。zui典型的應用范圍是：惰性氣體、碳氫化合物、腐蝕性氣體，如氯、氯化氫、二氧化硫等。
    4．操作簡單、維護量非常?。簝x器不用定期標定，直接測量即可。
    5．傳感器可以再生，因此儀器壽命長。當電極被污染之后，不用再買電 極，操作人員可以按規(guī)定要求對電極進行再生，方法非常簡便，效果與原電極*一樣。而且，這種再生功能可用多次，對電極無損害。一組電極可用8年以上。
    6．TMA-202型微量水分儀可以在防爆區(qū)工作。探頭與放大器之間距離可 達300米，若配置電纜，zui大距離可達1000米。